Numéro |
J. Phys. I France
Volume 1, Numéro 7, July 1991
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Page(s) | 1063 - 1071 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jp1:1991190 |
J. Phys. I France 1 (1991) 1063-1071
Croissance par jet moléculaire des semi-conducteurs V 2VI 3 sur subtrat amorphe
André Boyer1, Etienne Charles1 and Jean-Claude Tedenac21 C.E.M. U.A. 391 C.N.R.S., U.S.T.L., Place Eugène Bataillon, 34095 Montpellier Cedex 05, France
2 Laboratoire de Physico-Chimie des matériaux U.R.A. D0407 C.N.R.S., U.S.T.L., Place Eugène Bataillon, 34095 Montpellier Cedex 05, France
(Reçu le 10 décembre 1990, révisé le 7 mars 1991, accepté le 13 mars 1991)
Abstract
The conditions for producing narrow-bandgap semi-conductors using Bi
2Te
3, Bi
2Se
3 and Sb
2Te
3 deposited by molecular jet on amorphous substrate are defined. The sticking coefficients of the elements Bi, Te, Se and Sb
are evaluated as a function of
. The range of substrate temperatures
in which the three semi-conductors are stoichiometric are determined. The lowest temperature
corresponds to the amorphous-polycrystalline transition for Bi
2Se
3 and for Sb
2Te
3. The highest temperature
is fixed by the partial pressure of BiTe/Bi
2Te
3 for Bi
2Te
3 and the one of BiSe/Bi
2Se
3 for Bi
2Se
3.
Résumé
Les conditions de croissance des semi-conducteurs à faible bande interdite : Bi
2Te
3, Bi
2Se
3 et Sb
2Te
3 par la technique des jets moléculaires sur substrat amorphe sont définies. Les coefficients de collage des différents élémenets
Bi, Te, Se, Sb sont donnés en fonction de la température de substrat
. Pour chaque semi-conducteur on met en évidence un intervalle de température
pour lequel la stoechiométrie est vérifiée. La température inférieure
correspond au passage amorphe-polycristallin pour Bi
2Se
3 et pour Sb
2Te
3. La température la plus élevée
est fixée par la pression partielle de BiTe/Bi
2Te
3 pour Bi
2Te
3 et celle de BiSe/Bi
2Se
3 pour Bi
2Se
3.
© Les Editions de Physique 1991